GB/T 18501.2-2001 直流和低频模拟及数字式高速数据处理设备用连接器 第2部分:有质量评定的圆形连接器分规范
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基本信息
标准名称: | 直流和低频模拟及数字式高速数据处理设备用连接器 第2部分:有质量评定的圆形连接器分规范 |
英文名称: | Connectors for use in d.c.,low-frequency analogue and digital high speed data applications--Part 2:Circular connectors with assessed quality--Sectional specification |
中标分类: |
电子元器件与信息技术 >>
电子元件 >>
连接器 |
ICS分类: |
电子学 >>
电子电信设备用机电零部件 >>
插头和插座装置、连接器
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发布部门: | 中华人民共和国国家质量监督检验检疫总局 |
发布日期: | 2001-01-01 |
实施日期: | 2002-05-01 |
首发日期: | 2001-11-05 |
作废日期: | 1900-01-01 |
主管部门: | 信息产业部(电子) |
归口单位: | 全国电子设备用机电件标准化技术委员会 |
起草单位: | 中国电子技术标准化研究所 |
出版社: | 中国标准出版社 |
出版日期: | 2004-04-17 |
页数: | 平装16开, 页数:21, 字数:37千字 |
书号: | 155066.1-18222 |
适用范围
本标准规定了圆形连接器的统一规范、试验要求和质量评定程序。本标准包括了对全部试验方法及其程序、严酷度、尺寸和特性优选值的选龋本标准给出了制定电子和电气设备及系统用有质量评定的圆形连接器详细规范的导则。本标准应与GB/T 18501.1总规范及有关详细规范一起使用。当分规范与详细规范之间相抵触时,应以详细规范的要求为准。
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所属分类: 电子元器件与信息技术 电子元件 连接器 电子学 电子电信设备用机电零部件 插头和插座装置 连接器
【英文标准名称】:StandardPracticeforRubber-Preparation,Testing,Acceptance,Documentation,andUseofReferenceMaterials
【原文标准名称】:标准物质的制备、试验、验收、文献工作和使用
【标准号】:ASTMD4678-2004(2009)
【标准状态】:现行
【国别】:美国
【发布日期】:2004
【实施或试行日期】:
【发布单位】:美国材料与试验协会(US-ASTM)
【起草单位】:D11.20
【标准类型】:(Practice)
【标准水平】:()
【中文主题词】:
【英文主题词】:commonsourcereferencematerial(CRM);industryreferencematerial(IRM);referencematerial;Accelerators--rubber;Acceptancecriteria/testing--rubber;Acceptedreference(AR)value;Carbonblack;Carbonblacksampling;Carboncontent;Commonsourcere
【摘要】:Referencematerialsarevitallyimportantinproductandspecificationtesting,inresearchanddevelopmentwork,intechnicalservicework,andinqualitycontroloperationsintherubberandcarbonblackindustries.Theyareespeciallyvaluableforrefereepurposes.Categories,Classes,andTypesofReferenceMaterials(RM):Referencematerialsaredividedintotwocategories:IndustryReferenceMaterials(IRM)8212;Materialsthathavebeenpreparedaccordingtoaspecifiedproductionprocesstogenerateauniformlot;theparametersthatdefinethequalityofthelotareevaluatedbyaspecifiedmeasurementprogram.Common-SourceReferenceMaterials(CRM)8212;Materialsthathavebeenpreparedtobeasuniformaspossiblebutdonothaveestablishedproperty(parameter)values;theknowledgeofacommonorsinglesourceissufficientforcertainlesscriticalapplications.Industryreferencematerials(IRMs)aredividedintoadditionalclassesandtypesaccordingtothemethodofevaluatingthelotparametersandaccordingtotheproductionprocessforgeneratingthelotmaterial.Theseareexplainedmorefully(refertoAnnexA3andAnnexA4formoredetailsonthediscussioninSection3).Thefollowinglotparametersareimportantforreferencematerialuse:AcceptedReferenceValue(ARValue)8212;AnaverageIRMpropertyorparametervalueestablishedbywayofaspecifiedtestprogram.TestLotLimits(TLLimits)8212;Thesearelimitsdefinedasx00B1;3timesthestandarddeviationofindividualIRMtestresultsacrosstheentirelotforthepropertyorparameter(s)thatdefineslotquality;themeasurementsareconductedinthelaboratoryoftheorganizationproducingtheIRM.Althoughthelimitsasdefinedin3.2.3.2aregivenintermsofx00B1;3timesthestandarddeviation,therejectionofindividualportionsofthelotasbeingoutlierornon-typicalportionsinassessingthehomogeneityofthelotisdoneonthebasisofx00B1;2timestheappropriatestandarddeviation,thatis,onthebasisofa95%confidenceinterval.SeeAnnexA3andAnnexA4formoreinformationandtheevaluationprocedures.AllIRMshaveanARvalueandTLlimits;howevertheARvaluemaybeobtainedinoneoftwowaystoproduceoneoftwoclassesofARvalues:GlobalARValue8212;ThisARvalueisobtainedfromaninterlaboratorytestprogramwherethewordx201C;globalx201D;indicatesanaveragevalueacrossmanylaboratories.LocalARValue8212;ThisisanARvalueobtainedinonelaboratoryoratonelocation,usuallythelaboratoryresponsibleforpreparationofthehomogeneouslot.AnadditionalparameterisofimportanceforIRMsthathaveaglobalARvalue:Between-LaboratoryLimits(BL)8212;ThegroupoflaboratoriesthatconductinterlaboratorytestingtoestablishanAR-valuearenotequivalenttoasystemorpopulationtypicalofindustrialproductionoperationsthatusetheusualx00B1;3standarddeviationlimits.Suchproductionoperationsaresystemsthathavebeenpurgedofallassignablecausesofvariationandareinastateofx2018;statisticalcontrolx2019;
基本信息
标准名称: | 半导体单晶晶向测定方法 |
英文名称: | Test methods for determining the orientation of a semiconductor single crystal |
中标分类: |
冶金 >>
金属理化性能试验方法 >>
金属物理性能试验方法 |
ICS分类: |
电气工程 >>
半导体材料
|
替代情况: | 替代GB 1555-1979;GB 1556-1979;GB 5254-1985;GB 5255-1985;GB 8759-1988;被GB/T 1555-2009代替 |
发布部门: | 国家技术监督局 |
发布日期: | 1997-01-02 |
实施日期: | 1998-08-01 |
首发日期: | 1979-05-26 |
作废日期: | 2010-06-01 |
主管部门: | 国家标准化管理委员会 |
归口单位: | 全国半导体材料和设备标准化技术委员会 |
起草单位: | 峨嵋半导体材料厂 |
出版社: | 中国标准出版社 |
出版日期: | 2004-04-01 |
页数: | 平装16开, 页数:8, 字数:12千字 |
书号: | 155066.1-14909 |
适用范围
本标准规定了半导体单晶晶向X射线衍射定向和光图定向的方法。本标准适用于测定半导体单晶材料大致平行于低指数原子面的晶体的表面取向。
前言
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引用标准
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所属分类: 冶金 金属理化性能试验方法 金属物理性能试验方法 电气工程 半导体材料